半導體中心

本系管理之半導體中心為一 10000 等級的無塵室，面積達200平方公尺，擁有精密的光電半導體製程設備。

　　主要機台包括高溫氧化擴散爐、活性離子蝕刻系統 (RIE)、熱阻絲蒸鍍系統 (Evaporator) 、電子槍蒸鍍系統 (E-Gun)、真空濺鍍系統(Sputter)、電漿輔助化學氣相沉積系統 (PECVD)、OLED多工製程系統、MOCVD製程系統、黃光對準曝光機(Mask Aligner)、光阻塗佈機 (Spin Coater) 、晶片清洗台(Clean Bench) 等等;量測分析儀器方面包含電流-電壓參數分析儀 (I-V meter)、電容-電壓參數分析儀 (C-V meter)、原子力顯微鏡(AFM)、高倍率金相顯微鏡、膜厚量測儀、光譜儀、多工光檢測系統、信賴測試儀等等。這些儀器設備大大提昇光電科技教學與研發的實力。

　　另外配合平面顯示技術實驗室、光電元件實驗室、光學實驗室與將設立的 RF-ID 實驗室及積體光電研究室，將可以在教學與半導體技術研發上有整體一慣性的發展。